TSMC熊本を支える特許を分析 感光剤で日本企業に強み | 日本経済新聞
https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC043KY0U4A700C2000000/この分野では液浸用レジストも重要であり、特許総価値占有率の上位10社には米デュポン、信越化学工業、富士フイルム、東京応化工業、JSRという5社の化学メーカー
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この分野では液浸用レジストも重要であり、特許総価値占有率の上位10社には米デュポン、信越化学工業、富士フイルム、東京応化工業、JSRという5社の化学メーカー
Carbon Xtract株式会社との共同開発契約締結のお知らせ | 東京応化工業株式会社 Carbon Xtract株式会社と東京応化工業株式会社、…を可能とするシステムの 早期実用化・社会実装に向けた共同開発契約を締結 Carbon Xtract株式会社(以下「Carbon Xtract」)と東京応化工業株式会社…(以下「東京応化工業」)は、ガス分離膜を用いて大気中からの二酸化炭素(CO2)の直接回収(Direct Air Capture、以下「DAC」)を可能とする…共同開発における両社の具体的な役割は、東京応化工業が、将来的な量産を見据えた膜の開発や製造を担い、Carbon Xtractが、膜の評価を行うとともに、…Carbon Xtractと東京応化工業は、世の中のニーズに応えるべく、両社の技術・ノウハウを融合させることで、ナノ分離膜を用いたDAC技術であるm-DAC
東京応化工業株式会社とバイオプロセスの開発に向けた共同開発契約を締結 | bitBiome, Inc.…bitBiome株式会社(本社:東京都新宿区、代表取締役社長:鈴木 悠司、以下「bitBiome」)と東京応化工業株式会社(本社:神奈川県川崎市、代表取締役取締役社長…東京応化工業は、2020年8月に長期ビジョン「TOK Vision 2030」を発表し、「豊かな未来、社会の期待に化学で応えるThe e-Material…この度、bitBiomeと東京応化工業は、bitBiomeの酵素探索・改変プラットフォーム技術を活用し、東京応化工業が使用する石油由来原料の一部をバイオマス…【東京応化工業株式会社について】 東京応化工業株式会社は1940年に設立し、半導体・ディスプレイなどのフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(
レゾナックの他、味の素ファインテクノ、上村工業、荏原製作所、新光電気工業、大日本印刷、ディスコ、東京応化工業、ナミックス、パナソニック スマートファクトリーソリューションズ
東京応化工業 <4186> 9,167円 +290 円 (+3.3%) 11:30現在 東京応化工業<4186>が反発している。
フォトレジスト業界は、東京応化工業や信越化学工業など日本勢の存在感が圧倒的だ。
【半導体】東京応化工業と東京工業大学、「東京応化工業未来創造協働研究拠点」設立 東京応化工業と東京工業大学は半導体製造工程に用いる材料や化学薬品、加工技術…を基軸とした、フォトニクスデバイスやライフサイエンス、カーボンニュートラルに関する研究を行う協働研究拠点「東京応化工業 未来創造協働研究拠点」を東京工業大学…<「東京応化工業 未来創造協働研究拠点」の概要>名称:東京応化工業未来創造協働研究拠点設置場所:東京都目黒区大岡山2-12-1 大岡山キャンパス 工学院設置期間…協働研究目的:東京応化工業の将来に必要とされる中長期研究課題に対して、個々の研究領域を横断するような、包括的な共同研究体制を基に基礎研究から新規事業テーマ…拠 点長:西山伸彦(東京工業大学 工学院 教授)副拠点長:鳴海 裕介(東京応化工業 新事業開発本部 本部長)
東京応化工業と「東京応化工業未来創造協働研究拠点」設立 | 東工大ニュース | 東京工業大学 東京工業大学と東京応化工業株式会社は、半導体製造工程に用…いる材料や化学薬品、加工技術を基軸とした、フォトニクスデバイスやライフサイエンス、カーボンニュートラルに関する研究を行う「東京応化工業未来創造協働研究拠点
横浜の東京応化工業と東工大 半導体技術の研究拠点を設立 | カナロコ by 神奈川新聞横浜の東京応化工業と東工大 半導体技術の研究拠点を設立
9:44 東京応化工業−SMBC日興が目標株価引き上げ 短期需要は楽観しないが悪材料出尽くしは近い 東京応化工業<4186>が5日ぶり反発。
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それにも拘らず、特許庁より与えられた特許を有効と信じて、東京応化工業㈱を特許侵害している、と提訴しました。
それでも、特許庁より与えられた特許を有効と信じて、東京応化工業㈱を提訴しました。
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